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InnovateT5型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術,應用了日本濱松公司進的CMOS信號采集元件,每塊CMOS都可以單獨設值火花個數,與光譜儀技術同步,采用真空光室設計及全數字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設計合理,操作簡單易學,具有數據精準,長期穩(wěn)定性好等優(yōu)點。
應用范圍
冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。
檢測基體
T5鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基等
技術參數
光學系統(tǒng):帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)
波長范圍:140~680nm
光柵焦距:401mm
探 測 器:高性能CMOS陣列/CCD陣列
光源類型:數字光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率:100-1000Hz
放電電流:500A
工作電源:AC220V 50/60Hz 1000W
儀器尺寸: 780*565*360mm
儀器重量: 78kg
檢測時間:依據樣品類型而定,一般20S左右
電極類型:鎢材噴射電極
分析間隙:4mm
其他功能:真空,溫度,軟件自動控制;壓力,通訊監(jiān)測
儀器特點
高性能光學系統(tǒng)
采用高精度的CMOS元件可測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測定結果精準,重復性及長期穩(wěn)定性好。
自動光路校準
自動光路校準,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;
儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。
插拔式透鏡設計
真空光學系統(tǒng)采用獨特的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作,光學透鏡采用插拔式透鏡結構,日常清洗維護方便快捷。
真空防返油技術
多級隔離的真空防返油技術,采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空完全隔離;中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進入真空室,保障CMOS檢測器及光學元件在可靠環(huán)境中工作。
開放式激發(fā)臺
開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設計,以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材***低分析可達到3mm。
噴射電極技術
采用進的噴射電極技術,使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度;配上獨特氬氣氣路設計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。
集成氣路模塊
氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護設計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。
數字化激發(fā)光源
數字激發(fā)光源,采用***為的等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品;可任意調節(jié)光源的各項參數,滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
高速數據采集
儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數據采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。
以太數據傳輸
計算機和光譜儀之間使用以太網卡和TCP/IP協議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機完全外置,方便升級和更換;可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數。
預制工作曲線
備有不同材質和牌號的標樣庫,儀器出廠時工廠預制工作曲線,方便安裝調試和及時投入生產;根據元素和材質對應的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數儀器出廠時已經調節(jié)好,根據分析程序可自動選擇***優(yōu)測試條件。
分析速度快
分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;針對不同的分析材料,通過設置預燃時間及測量時間,使儀器用***短時間達到***優(yōu)的分析效果。
多基體分析
光路設計采用羅蘭圓結構,檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設施,即可實現多基體分析;便于根據生產的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。
軟件中英文系統(tǒng)
儀器軟件操作簡單,完全兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)。
客戶案例
更新時間:2024/6/6 13:42:18
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